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試試看:電子顯微鏡、蝕刻、EDA、成果發表會
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文章 6
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國儀中心新增 40 項量測分析設備資訊
新增電子顯微鏡、X 光繞射與表面分析等量測設備,資源內頁提供規格與聯絡窗口。
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先進封裝量測技術研討會(台南場)
介紹先進封裝製程中常用的量測與失效分析方法,並開放現場設備參訪。
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暑期半導體設備實作營圓滿落幕
共 120 名學員參與,完成製程、量測與設計三大主題實作課程。
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晶片驅動-全台半導體資源共享平台改版上線公告
新版網站整合各參與單位設備資源,提供依類別、單位與地區的資源篩選。
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跨校共享電子束微影設備,協助 12 個研究團隊完成元件試製
透過設備共享機制,研究團隊縮短約 40% 的試製等待時間。
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2026 半導體學研資源共享成果發表會開放報名
11 月 28 日於新竹舉行,邀集各參與單位分享設備共享成果與跨校合作案例。
沒有符合的文章。
資源 12
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電子束微影系統
可直寫 10 nm 等級線寬圖形,適用奈米元件、光子晶體與光罩製作。
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原子層沉積系統
可沉積 Al₂O₃、HfO₂ 等高介電薄膜,膜厚控制達原子層等級。
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感應耦合電漿蝕刻機
支援矽、介電層與 III-V 化合物半導體之高深寬比乾式蝕刻。
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深紫外光步進曝光機
8 吋晶圓相容之 248 nm 步進式曝光,適用多專案晶圓試製。
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場發射掃描式電子顯微鏡
高解析表面形貌觀察,搭配 EDS 元素分析,解析度可達 1 nm。
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穿透式電子顯微鏡
原子級晶格影像與元件截面分析,支援 STEM 與 EELS 模式。
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X 光繞射分析儀
薄膜結晶結構、晶相鑑定與殘留應力分析。
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晶圓級探針量測系統
8 吋晶圓自動探針台,搭配 IV/CV 與高頻量測模組。
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半導體參數分析儀
元件直流特性與脈衝量測,適用電晶體與記憶體元件可靠度評估。
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數位 IC 設計 EDA 平台
提供合成、佈局繞線與簽核驗證的學術用 EDA 設計環境。
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TCAD 製程與元件模擬
製程步驟與元件電性模擬,協助縮短實驗試誤時間。
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高速電路訊號完整性模擬平台
封裝與電路板之訊號/電源完整性分析,支援高速介面設計。
沒有符合的資源。